| Collaborations
industrielles |
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| Collaborations
en France |
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- Rabah
Boukherroub de
l'IRI
(Institut de recherche Interdisciplinaire) à
Lille. La collaboration porte sur les modifications
organiques de surface de silicium.
Il dirige la thèse de Carine
Douarche , actuellement
au sein de l'équipe.
- Arnaud
Etcheberry de l'Institut
Lavoisier (UMR 8637 du CNRS)
à l'université de Versailles Saint Quentin en
Yvelines.
La collaboration concerne les modifications
organiques de surface de silicium.
En particulier, il assure la caractérisation XPS des
surfaces.
- Xavier
Wallart
de l'IEMN
(Institut d'Électronique, de Microélectronique et
de Nanotechnologie) à Lille. La collaboration porte sur les modifications
organiques de surface de silicium,
en particulier, sur la caractérisation XPS des surfaces.
- Claude
Chappert et Thibaut Devolder
de
l'Institut
d'Électronique Fondamentale
(UMR 8622) de l‘Université Paris – Sud
à Orsay. La collaboration s'inscrit dans le cadre de
l’ACI « Nanodynamag »,
sur la réalisation de nano-piliers pour le retournement de
l’aimantation par transfert de spin. Claude Chappert et J.
Ferré co-dirigent
la thèse de Patricia
Prod’homme qui travaille actuellement au laboratoire.
- J. Ferré,
du Laboratoire de Physique des Solides de
l‘Université Paris – Sud à
Orsay)
La collaboration s’inscrit dans le cadre de l’ACI
« Nanodynamag ».
- Fabienne Berthier
du
Laboratoire des Milieux Hors d’Equilibre de
l’Université Paris - Sud à Orsay. Nous
collaborons sur les phénomènes de dissolution et
de dépôt électrochimique à
l’échelle atomique, nottamnent dans le cadre cu
contrat ANR "SEAMAN".
- Suzanne Joiret
du
Laboratoire des Interfaces et Systèmes Electrochimiques (UPR
15) de l’Université P & M Curie
à Paris. La collaboration concerne la mise au point et
l’étude des caractérisations par
spectroscopie Raman in situ
exalté de couches passives sur les métaux du
groupe fer.
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| Collaborations
internationales |
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- Rolf Schuster
(TU
Darmstadt, Darmstadt, Allemagne). La collaboration porte sur la
nanostructuration électrochimique
des métaux et
du silicium par application
d’impulsions de potentiel ultra courtes.
- Mohammed
Cherkaoui est membre du
laboratoire d'électrochimie et de traitements de surface
à l'université Ibn Tofail de Kénitra
(Maroc). La collaboration concerne l'étude de l'anisotropie
de dissolution du silicium en milieu fluorure.
- Noureddine
Gabouze
est membre de l'Unité de Développement de la
Technologie du Silicium à Alger et Ratiba
Outemzabet
est enseignante à l'université technique Houari
Boumedienne d'Alger (Algérie). La collaboration porte sur
l'étude de l'anisotropie
de dissolution du silicium en milieu fluorure , l'élaboration
de silicium poreux à partir de silicium amorphe, et les
modifications organiques de sa surface.
- Juergen Carstensen
et Helmut
Föll
(Faculté d'ingénierie, Christian Albrechts
Universität, Kiel, Allemagne). La collaboration porte sur la
formation de silice poreuse.
- Steffi Krause
(Département de matériaux, Queen Mary University
of
London, Angleterre). La collaboration porte sur
l'élaboration de
biocapteurs à partir de silicium amorphe.
- Mohammed A.
Amin-Ismaïl (Département
de chimie de
l'université Ain-Shams, le Caire, Égypte). La
collaboration porte sur la formation de silice poreuse.
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